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白皮书

3与导师图形Tessent d-ic测试平台

测试interposer-based版本的堆叠死亡和未来版本使用在矽通过。

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三维堆叠集成电路(3 d-ics)是由多个堆死,并被视为关键在帮助半导体产业跟上摩尔定律。目前的集成和互连方法包括wirebond和倒装芯片和已经在生产一段时间。

3 d芯片通过插入器连接在Xilinx生产,三星、IBM和Sematech [1]。插入器提供3 d的逻辑工业化的第一步。基于在矽通过(TSV)。新一代3 d集成了TSV之间的互连技术作为主要的方法死去。

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