标签:随机效应

High-NA EUV可能比看起来更亲密
通过凯瑟琳德比郡- 6月16日,2022 -评论:1

High-NA EUV有望使扩展到埃水平,为芯片与更高的晶体管数量和一个全新的工具,材料,和系统架构。在最近有先进光刻技术会议上,马克·菲利普斯光刻硬件和应用解决方案的主管英特尔,重申公司的打算部署技术在高…»阅读更多

多模式EUV与High-NA EUV
通过马克LaPedus2019年12月- 04 -评论:4

铸造厂终于在生产与EUV光刻7海里,但芯片客户现在必须决定是否使用EUV-based实现他们的下一个设计多个模式5 nm / 3 nm或等待一个新的单井网EUV系统3 nm和超越。这个场景围绕ASML目前的极端紫外线(EUV)光刻工具(NXE: 3400 c)和一个全新的EUV系统……»阅读更多

检查、模式EUV掩
通过马克LaPedus- 06年11月2019 -评论:0

半导体工程坐下来讨论光刻和布莱恩Kasprowicz光掩模的趋势,技术总监和策略和一个杰出的成员在光电池的技术人员;托马斯•Scheruebl蔡司战略业务发展和产品战略主管;资深技术专家平Nakayamada NuFlare;和阿基》d2的首席执行官。符合什么……»阅读更多

发现EUV随机效应的来源
通过凯瑟琳德比郡——4月15日,2019 -评论:7

下一阶段的EUV发展已经开始EUV更容易预测和可能更主流和看起来一样困难的和雄心勃勃的其他先进光刻技术的发展。在早期的EUV开发,技术的支持者认为,这是“仍然基于光子,”而不是替代像电子束光刻技术。Whil……»阅读更多

晶圆厂满足机器学习
通过马克LaPedus——7月19日,2018 -评论:2

阿基》的首席执行官d2,坐下来与半导体工程讨论摩尔定律及光掩模技术。》也解释了人工智能和机器学习是如何影响集成电路产业。以下是摘录的谈话。SE:一段时间,你说我们需要更多的计算能力。所以我们需要更快的芯片在高级节点,但成本…»阅读更多

EUV领域的新问题
通过马克LaPedus——3月19日,2018 -评论:2

极端紫外线(EUV)光刻正在接近生产,但问题的变化,还被称为随机赶超重修的迟来的技术,创造更多的挑战。GlobalFoundries、英特尔、三星和台积电希望插入[gettech id = " 31045 "评论= " EUV "] 7纳米光刻技术投入生产和/或5海里。但是,EUV由几种混合涂料……»阅读更多

执行官的洞察力:沃利莱茵(2018年3月)
通过布莱恩•贝利- 01年3月,2018 -评论:0

沃利莱茵河,总裁兼首席执行官(getentity id = " 22017 " e_name =“导师,西门子业务”],坐下来与半导体工程讨论范围广泛的工业和技术变化和如何将在未来几年。以下是摘录的谈话。SE:最终市场会发生什么?莱茵:最终市场也许是更令人兴奋的从…»阅读更多

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