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标签:等离子体刻蚀

高度选择性蚀刻推出下一代芯片
通过马克LaPedus- 3月21日,2022 -评论:0

几个腐蚀供应商开始船下一代选择性蚀刻工具,为新的记忆和逻辑设备铺平了道路。应用材料公司是第一个供应商船下一代选择性蚀刻系统,有时被称为高度选择性腐蚀,在2016年。现在,林研究、电话和其他运输工具具有高度选择性腐蚀能力,在准备未来设备苏……»阅读更多

MicroLEDs从实验室到工厂
通过劳拉·彼得斯——7月22日,2021 -评论:1

每一个颠覆性技术都有其“啊哈”——的时候每个人都从工程师到投资者意识到,是的,这技术是真正的交易,它不会被取消在研发楼。对许多人来说,这是三星最近宣布的110英寸电视microLED不可逆转地在地图上把microLEDs。电视的价格是155000美元,但与大多数消费电子产品th……»阅读更多

周评:制造、测试
通过马克LaPedus- 06年3月,2020 -评论:0

工厂的工具、材料和包装英特尔已经认可37公司年度供应商奖。其中包括设备、材料、包装房屋和其他部分。这些供应商与英特尔合作实施过程改进提供良好的产品和服务。看谁在这里。- - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - -林的研究介绍了……»阅读更多

原子层蚀刻终于出现了
通过马克LaPedus——5月15日,2014 -评论:1

迁移对finFETs 20 nm节点和其他设备,除了需要一个新的数组芯片技术。多个模式,混合计量和新奇的互连方案所需的只是几个技术未来的扩展。此外,行业还需要新的技术,可以处理结构在原子水平。例如……»阅读更多

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