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许多小旋钮的权力


随着越来越多的finfet被封装在芯片上,并且导线收缩到电阻和电容成为一阶效应的程度,动态功率在新节点上成为一个更大的担忧。芯片制造商开始发现第一代[getkc id="185" kc_name=" finfts "]的动态功率密度问题。而三维晶体管结构通过提供更好的栅极控制降低了泄漏电流…»阅读更多

制造更快的芯片


物联网传感器数据的爆炸式增长,深度学习和人工智能的出现,以及增强现实和虚拟现实的商业推广,正在推动人们重新对性能作为半导体设计的关键指标产生兴趣。在过去的十年中,移动/智能手机主导了芯片设计,功耗取代了性能成为首要驱动因素。处理器哈…»阅读更多

高管洞察:格兰特•皮尔斯


Sonics总裁兼首席执行官Grant Pierce接受了Semiconductor Engineering的采访,讨论了提高soc能效的新方法。以下是那次谈话的节选。SE:放眼半导体行业,现在有很多变化正在发生。在你看来,最大的影响是什么?皮尔斯:被捕获或发送的数据量…»阅读更多

近门槛计算


物联网(IoT)的出现引起了人们对极低功耗设计需求的大量关注,而这反过来又增加了降低电压的压力。在过去,每一个新的工艺节点都缩小了特征尺寸并降低了标称工作电压。这导致了功耗的下降。然而,在90nm左右,情况发生了两种变化. ...»阅读更多

使用PowerPro降低动态功率的介绍


在许多公司,节能的工作都留给了电力专家。这些专家已经积累了多年的知识和方法,并在他们的团队中反复应用到设计中。这种方法非常狭窄,不能跨公司的多个组进行扩展。公司已经开始意识到这种方法的局限性。越来越多的RTL设计师正在被任务…»阅读更多

绘制下一个半导体路线图


随着摩尔定律(Moore’s Law)越来越难以维持,以及智能手机的增长率继续趋平,半导体行业正在围绕新技术和新市场收缩。在过去,推进到下一个流程节点将在功率、性能和成本方面提供改进是肯定的。但在22nm之后,由于对多模式和finfet的需求,经济状况发生了变化。»阅读更多

“降低动态功率简介”


在过去的几篇博客中,我们主要讨论了UPF和应用逐次细化过程来节省电力。但是,这个过程解决了漏电问题。在这节课中,我们想谈谈如何节省动态功率。随着设计转向finFET技术,动态功率是功耗的主要贡献者。功耗趋势。我最近和我的c…»阅读更多

2016年及以后


希腊神话和罗马历史上充满了占卜者,他们中有些人是对的,有些人是错的。卡桑德拉被诅咒了,她的预测不会被相信,即使她预测了特洛伊木马。凯撒的占卜师在3月15日预言了凯撒大帝的死亡,凯撒本人对此表示怀疑,但实际上他在3月15日之前就被谋杀了. ...»阅读更多

技术讲座:14nm和堆叠芯片


GlobalFoundries ASIC业务部营销总监Aashish Malhotra介绍了14nm工艺技术、IP生态系统,以及为什么该技术节点将被用作2.5D和3D堆叠芯片的平台,应用于包括物联网在内的广泛市场。[youtube视频= ukTRuedB7ZU]»阅读更多

RTL功率分析:智能综合架构


传统上,RTL功率分析用于了解设计功耗,以便开始封装和电源设计,然后设计人员可以在后续设计迭代中修复任何功率回归违规。然而,迁移到finFET进程导致设计人员在高级节点上以不同的方式看待RTL功率分析。FinFET过程在很大程度上解决了……»阅读更多

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