标签:着色

ECOs和多模式:这是可以做到的
通过大卫阿伯克龙比- 4月21日,2016 -评论:0

大卫•阿伯克龙比和亚历克斯·皮尔森已经有很多讨论关于如何分解(颜色)布局先进流程节点需要多重图像(MP)。然而,被严重忽视的一个主题是如何有效地更改设计,已经颜色,甚至贴出和加工。我们会像所有设计工作第一次通过……»阅读更多

重置预期在多模式分解和检查
通过大卫阿伯克龙比10月- 22,2015 -评论:0

它从来没有停止让我有多少混乱和误解时多模式(MP)分解和检查。我有时会忘记新的主题在我们的行业。因为这短暂的历史,和有限的时间内设计师不得不获得任何详细的对其复杂性的理解,似乎有一些严重的脱节expectati…»阅读更多

案例研究在不具有Double-Patterning调试
通过大卫阿伯克龙比8月- 20,2015 -评论:0

在我的上一篇文章中,我们研究了一些案例研究的独特类型的双模式相关的问题(DP)地点和路线(不)和芯片完成工程师必须处理。我有一些更有趣的案例给你。在现代不设计,金属线路在特定层是单向(或至少主要是单向)。长p…»阅读更多

技术说:10 nm模式
通过布莱恩•贝利8月- 20,2015 -评论:0

大卫•阿伯克龙比先进的物理验证方法项目经理导师图形,谈到三倍和四倍20/16/14nm后模式,设计团队需要了解什么能得到这个权利。(youtube视频= 7 bjutpwakpw)»阅读更多

在三星的铸造业务
通过马克LaPedus——7月23日,2015 -评论:0

半导体工程坐下来谈论铸造业务,工艺技术、设计和其他主题洪涛铸造业务高级副总裁(getentity id = " 22865 " e_name =“三星半导体”);和开尔文低,铸造营销高级总监三星半导体。以下是摘录的讨论。SE:铸造业务总是……»阅读更多

10 nm之后是什么?
通过埃德·斯珀林——5月21日,2015 -评论:0

前28纳米半导体路线图是如此预测。每两年你可以保证特性将缩小,直到没有更多的原子离开了。两个大东西,很多小的事情后,轨迹看起来更不确定。大事情一边是明显culprits-EUV延迟,和RC延迟造成的细电线。这是艰难的科学。亲……»阅读更多

技术讨论:14 nm
通过埃德·斯珀林——5月21日,2015 -评论:0

拉吉卜降服数字设计方法技术领导GlobalFoundries 14 nm finFETs有什么改变,包括着色双模式,新的角落,米勒效应,时间问题和可变性。[youtube视频= Yk6jSKCtsjU]»阅读更多

三只眼睛比两个?
通过大卫阿伯克龙比- 4月16日,2015 -评论:0

很明显,有两个眼睛比刚刚好。深度知觉不仅是更好的,但我们享受3 d电影。也有一些安全感知道如果可怕的事情发生了一只眼睛,你总是有一个备份。你可曾想过这些优势是否可扩展吗?你可能听说过这个短语对某人哈…»阅读更多

技术讨论:多重图像,把两个
通过布莱恩•贝利- 3月31日,2014 -评论:0

导师图形的大卫阿伯克龙比继续他的白板讨论与先进光刻着色,包括差错以及如何解决它。[youtube视频= HCBtvHCcbf4]»阅读更多

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