大卫阿伯克龙比

大卫阿伯克龙比

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David Abercrombie是西门子公司Mentor的高级物理验证方法项目经理。在过去的几年里，他一直在推动EDA工具的开发，这些工具可以解决设计到过程相互作用(DFM)中的问题，这些问题造成了不断增加的良率问题。大卫在克莱姆森大学获得学士学位，在北卡罗莱纳州立大学获得硕士学位。

作者最新文章

EUV会杀死多图案吗?
通过大卫阿伯克龙比- 2017年1月19日-评论:0

当我在2010年底第一次开始研究双图版(DP)工具时，已经有人说这可能是一个没有结果的项目，或者至少是一个非常短暂的项目，因为极紫外(EUV)光刻技术即将出现，并将淘汰所有的多图版(MP)。好吧，在我开始这个项目的第七年，我可以清楚地听到马克·吐温的回声，报告……»阅读更多

填充/切割自对齐双模式
通过大卫阿伯克龙比- 2016年11月17日-评论:0

David Abercrombie, Rehab Ali, Ahmed hamede - fatehy和Shetha Nolke自对齐双图版(SADP)是一种替代双图版工艺，用于大多数先进生产节点的传统蚀刻-蚀刻-蚀刻(LELE)方法。这两种方法的主要区别在于，在LELE中，布局被分为两个掩码，第二个掩码与resp对齐。»阅读更多

双模自动拼接的缺陷
通过大卫阿伯克龙比- 2016年9月22日-评论:0

自从第一个双图案(DP)奇循环误差环在布局上产生以来，设计师们一直渴望一个神奇的解决方案来解决它。传统上，修复奇循环错误的第一种方法是移动一个多边形或多边形边，以增加循环中相邻多边形的间距。或者，你也可以把一个多边形全部移除，或者把它分成两部分。所有的…»阅读更多

无色与彩色双图案设计流程
通过大卫阿伯克龙比- 2016年7月21日-意见:0

彩色和无色双图案设计流程-你知道哪一个最适合你的设计吗?你的代工厂有哪些选择?你调试一个与另一个不同吗?在这个短视频中，我将演示彩色和无色DP设计流程之间的差异，并解释每种方法的选项和潜在缺陷。随着对如何设计的更好理解……»阅读更多

ECOs和多模式:可以做到
通过大卫阿伯克龙比- 2016年4月21日-评论:0

关于如何为需要多模式(MP)的高级流程节点分解(颜色)布局，已经有很多文章和讨论。然而，一个被严重忽视的主题是如何有效地对已经上色的设计进行更改，甚至是贴出来和处理的设计。我们倾向于认为所有的设计第一次就能成功……»阅读更多

何时以及如何为我的DP布局上色?
通过大卫阿伯克龙比- 2016年2月18日-评论:0

使用需要双重模式的高级流程技术的设计师经常会发现自己困惑于设置或优化设计流程的最佳方法，以确保布局可以被分解而不会出现浪费时间的错误。因为手动上色即使对有经验的工程师来说也是具有挑战性的，许多人更喜欢使用自动上色解决方案。但是……的最佳时间是什么时候?»阅读更多

关于多模式分解和检查的期望重置
通过大卫阿伯克龙比- 2015年12月17日-意见:0

正如我在本主题的第1部分中所说的，当涉及到多模式(MP)分解和检查时，有多少困惑和误解总是让我感到惊讶。整个第一篇文章只关注我必须与客户讨论的关于双重模式(DP)的典型主题。我必须告诉你，随着三重模式(TP)和四重模式的部署……»阅读更多

关于多模式分解和检查的期望重置
通过大卫阿伯克龙比- 2015年10月22日-评论:0

当涉及到多模式(MP)分解和检查时，有多少困惑和误解总是让我感到惊讶。我有时会忘记这在我们行业是一个多么新的话题。由于这段短暂的历史，以及设计师必须在有限的时间内获得对其复杂性的详细理解，因此在预期中似乎存在一些严重的脱节。»阅读更多

P&R双模式调试案例研究
通过大卫阿伯克龙比- 2015年8月20日-评论:0

在我的上一篇文章中，我们研究了一些与双模式(DP)相关的独特类型的案例研究，这些问题是位置和路线(P&R)和芯片加工工程师必须处理的。这次我有一些更有趣的案例要给你们看。在现代P&R设计中，特定层上的金属路径是单向的(或至少主要是单向的)。长p…»阅读更多

双模式调试中的案例研究
通过大卫阿伯克龙比- 2015年6月18日-评论:0

双重模式(DP)几乎影响了设计和制造流程的每个部分。然而，在这些流程的不同部分，您遇到的问题类型、它们表现自己的方式以及解决它们的理想方式可能非常不同。我觉得在过去的六个月里，我花了很多时间与DP I的地点和路线(P&R)和芯片加工工程师一起工作……»阅读更多

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