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标签:学院

EUV薄膜终于准备好了
通过马克LaPedus——3月22日,2021 -评论:0

经过一段时间的延迟,EUV薄膜是新兴和成为一个关键芯片的大批量生产的要求。同时,极端的紫外线的薄膜景观(EUV)光刻技术正在改变。荷兰阿斯麦公司的唯一供应商EUV薄膜,将这些产品的组装和销售转移到三井。其他人也在开发薄膜EUV,下一代……»阅读更多

在EUV掩找到缺陷
通过马克LaPedus1月23日,2020 -评论:0

极端紫外线(EUV)光刻终于在先进的生产节点,但是仍然存在一些挑战的技术,如EUV掩模缺陷。缺陷在芯片不必要的偏差,从而影响产量和性能。他们可以出现在芯片制造过程中,包括一个面具的生产或光掩模,有时被称为一个十字线。幸运的是…»阅读更多

寻找EUV掩模缺陷
通过马克LaPedus- 10月19日,2017 -评论:2

芯片制造商希望插入极端紫外线(EUV)在7海里和/或5纳米光刻技术,但一些挑战需要解决之前,这一技术可以在生产中使用。越来越令人担忧的一个挥之不去的问题是如何找到[gettech id = " 31045 "评论= " EUV "]掩盖缺陷。当然,这并不是唯一的问题。这个行业继续工作电源和抗拒。部……»阅读更多

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