双模式标志着一个转折点光刻、可变性和复杂性。
20 nm制程节点代表了电子行业的一个转折点。虽然带来了巨大的权力,性能和区域优势,它同时也带来了新的挑战在光刻技术等领域,可变性和复杂性。好消息是,这些成为可管理的挑战与20 nm-aware EDA工具中使用时的端到端集成设计流基于“预防、分析和优化方法。
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