中文 英语

光掩模在成熟节点出现短缺


成熟节点对芯片的需求激增,加上这些几何形状的光掩模制造设备老化,正在引起整个供应链的严重担忧。这些问题最近才开始浮出水面,但对于对芯片生产至关重要的掩模来说,这些问题尤其令人担忧。28nm及以上掩模的制造能力尤其紧张,这推动了…»阅读更多

一周回顾:制造,测试


美国参议院批准了2022年美国竞争法案,这对芯片行业产生了重大影响。该法案现在将提交众议院进行进一步协调。如果获得批准,该计划将为美国半导体芯片制造业提供超过500亿美元的补贴。美国半导体联盟(SIAC)敦促国会迅速采取行动,尽快达成两党妥协,并尽快解决问题。»阅读更多

生产时间:11月8日


量子计算机开发公司Rigetti computing被选为开发聚变能的量子模拟项目的负责人。该项目由美国能源部(DoE)授予。根据计划,Rigetti将与劳伦斯利弗莫尔国家实验室和南加州大学合作,为期三年,耗资310万美元…»阅读更多

发现EUV掩模中的缺陷


极紫外(EUV)光刻技术终于在先进的节点上投入生产,但该技术仍存在一些挑战,例如EUV掩模缺陷。缺陷是芯片中不需要的偏差,它会影响成品率和性能。它们可能在芯片制造过程中突然出现,包括掩模或掩模的生产,有时也被称为十字线。幸运的是…»阅读更多

一周回顾:制造,测试


GlobalFoundries (GF)最近采取了削减成本、专注于核心业务的最新举措,宣布计划放弃其在佛蒙特州伯灵顿的掩模业务,但该代工供应商将保留其合资掩模部门的股份。根据该计划,Toppan Photomasks将收购GF的伯灵顿掩模工厂的某些资产。“GF正在转移它的蒙版工具……»阅读更多

本周回顾:制造业


上月末,美国国会敲定了本财政年度剩余时间的联邦支出。这也包括研发支出。“随着总统2018财年预算的公布,人们对联邦支出的未来感到严重担忧,该预算将把国家科学基金会(NSF)的预算削减11%,国家标准与技术研究院(NIST)的支出削减11%。»阅读更多

本周回顾:制造业


芯片制造商集成电路行业继续整合。例如,高通(Qualcomm)提出了收购恩智浦(NXP)的计划。然后,博通想收购高通。下一个是谁?加拿大皇家银行资本市场分析师米奇·史蒂夫斯在一份研究报告中表示:“据彭博社报道,Microsemi正在探索出售,我们认为合乎逻辑的收购对象可能包括Skyworks。我们继续认为Microsemi是一个重要的战略,因为……»阅读更多

更多EUV掩模间隙


极紫外(EUV)光刻技术正处于关键时刻。经过几次延迟和故障,[gettech id="31045" comment="EUV"]现在的目标是7nm和/或5nm。但在EUV投入大规模生产之前,仍有许多技术必须结合在一起。如果这些碎片不到位,EUV可能会再次滑落。首先,EUV源必须产生更多…»阅读更多

BACUS的5个要点


像往常一样,最近的SPIE掩模技术大会(有时被称为BACUS)是一个繁忙的活动。该活动在加州圣何塞举行,主要介绍了掩模领域的常见主题。会上介绍了掩模编码器、检验、计量、维修和清洗。当然,这些论文还包括基于极紫外(EUV)光刻技术的面具……»阅读更多

调查:掩码复杂度增加


eBeam Initiative今天发布了年度成员感知调查,一系列结果揭示了一些关于EUV、多波束和掩模技术的新数据。作为新调查结果的一部分,与去年的结果相比,人们对极紫外(EUV)光刻在大批量制造中的实施越来越乐观……»阅读更多

←老帖子
Baidu