标签:锰

新BEOL /摩尔突破?
通过马克LaPedus- 15,2017 -评论:1

芯片制造商正在推进在先进的晶体管扩展节点,但它变得更加困难。这个行业正在努力保持相同的接触和互联的时间表,这代表了一个更大的部分的成本和不必要的阻力在芯片最先进的节点。尖端芯片晶体管,包括三个部位接触和互联。…»阅读更多

互连挑战成长
通过马克LaPedus8月- 20,2015 -评论:1

很明显,传统的芯片扩展正在放缓。16 nm / 14 nm逻辑节点展开花了比预期更长的时间。和10 nm节点及以后可能遭受同样的命运。主要的原因是什么?很难精确定位的问题,虽然很多人指责光刻技术上的问题。但是可能最终举起缩放的火车,和撤销摩尔定律,可以说是t…»阅读更多

7和5 nm真的会发生吗?
通过马克LaPedus7月- 14,2014 -评论:2

今天的硅基finFETs可能失去势头在10纳米。如果或当芯片制造商超越10 nm, IC供应商将需要一个新的晶体管架构。III-V finFETs, gate-all-around场效应晶体管,量子井finFETs, SOI finFETs和垂直纳米线只是几个未来的晶体管候选人在7和5 nm。从技术上讲,这是可能的制造晶体管的部分……»阅读更多

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