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大的变化在功率输出、材料、和互联
通过劳拉·彼得斯——3月22日,2023 -评论:0

这个预测的部分介绍了晶体管发展架构和光刻平台。这份报告检查革命互联和包装。设备互联时,很难打败铜。其低电阻率、高可靠性为行业极其以及两片上互连芯片之间和电线。但在逻辑芯片,int……»阅读更多

7纳米光刻技术的选择
通过马克LaPedus- 07年3月,2016 -评论:2

芯片制造商正在酝酿他们16 nm / 14 nm逻辑流程,预计10 nm进入早期生产今年晚些时候。除非在光刻技术取得重大突破,芯片制造商正在使用今天的193海里浸泡和多个模式16/14nm和10纳米。现在,芯片制造商关注7纳米光刻技术选项。为此,他们希望利用两种技术的结合…»阅读更多

双模式定制的设计和调试
通过导师,西门子业务10月- 22,2015 -评论:0

Litho-Etch-Litho-Etch(乐乐)双模式(DP)处理会影响许多方面的设计流程/ 20 nm节点级别以下。这可以非常破坏性的定制设计,影响基本单元设计策略,布局规则和调试以及寄生提取。论述了如何应对这些影响,避免常见的设计错误和调试快速、准确地……»阅读更多

自对准双重模式,第一部分
通过大卫阿伯克龙比——5月15日,2014 -评论:0

我相信你们大多数人看到罗夏墨迹测试(图1)。精神病医生问受试者告诉他们“看到”墨水污点。答案是用来描述被申请人的个性和情感的功能。我不确定我是否感到更不确定的是精神病医生问,或试图决定该说些什么,鉴于有ar……»阅读更多

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