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标签:Inpria

为高na EUV做准备
通过马克LaPedus- 2021年10月21日-评论

半导体行业正在全速发展高na EUV，但提出这种下一代光刻系统和相关基础设施仍然是一项艰巨而昂贵的任务。阿斯麦公司开发其高数值孔径(高na) EUV光刻线已有一段时间了。基本上，高na EUV扫描仪是当今EUV光刻系统的后续…»阅读更多

一周回顾:制造，测试
通过马克LaPedus- 2021年9月17日-评论:0

自2020年成立合作伙伴关系以来，Advantest和PDF Solutions首次推出了联合开发的产品。新产品被称为Advantest云解决方案动态参数测试(ACS DPT)解决方案。它集成了PDF解决方案的Exensio数据分析组合和Advantest的V93000参数化测试系统。ACS DPT解决方案的设计…»阅读更多

提高EUV工艺效率
通过马克LaPedus- 2020年3月19日-评论

半导体行业正在重新思考极紫外(EUV)光刻的制造流程，以改善整体工艺并减少晶圆厂的浪费。供应商目前正在开发新的和潜在的突破性晶圆厂材料和设备。这些技术仍处于研发阶段，尚未得到验证。但如果他们按计划工作，他们可以提高flo…»阅读更多

启动资金:2020年2月
通过杰西·艾伦- 2020年3月4日-评论:0

人工智能上个月吸引了最大的投资，两家人工智能硬件公司和一家自动驾驶软件初创公司获得了九位数的投资。投资者还将资金投入半导体制造和测试设备，尤其是EUV光刻和先进封装领域。AI硬件SambaNova Systems获得2.5亿美元C轮融资，用于其AI软件定义硬件。»阅读更多

一周回顾:制造，测试
通过马克LaPedus- 2020年2月21日-评论:0

据《华尔街日报》报道，美国正在考虑对中国的晶圆厂设备实施新的贸易出口限制。“最近的媒体报道显示，美国商务部正在探索进一步措施，通过要求全球芯片制造厂获得许可证，限制华为获得美国半导体资本设备(SPE)。»阅读更多

Semicon的5个要点
通过马克LaPedus- 2017年7月20日-评论:0

最近在旧金山举行的Semicon West贸易展上，有许多主题的演讲。该活动由SEMI赞助，介绍了集成电路、设备和包装的前景。不过，很明显，与过去几年相比，本届展会规模小得多，参加人数也少得多。大多数大公司都不再设有摊位。几乎没有人有新闻发布会或医疗…»阅读更多

本周回顾:制造业
通过马克LaPedus- 2017年7月14日-评论

Semicon West的市场研究机构SEMI发布了其年中预测。SEMI报告称，2017年全球新半导体制造设备的销售额预计将增长19.8%，达到494亿美元，这是半导体设备市场首次超过2000年创下的477亿美元的市场高点。2018年，预计增长7.7%，导致…»阅读更多

芯片研发内幕
通过马克LaPedus- 2017年6月15日-评论

《半导体工程》与比利时研发组织Imec总裁兼首席执行官Luc Van den hove坐下来讨论了研发挑战、EUV和其他话题。以下是那次谈话的节选。SE:显然，摩尔定律正在放缓。传统的流程节奏从2年扩展到大约2.5到3年。然而，研发并没有放缓，对吧?.．.»阅读更多

在光刻和面具内部
通过马克LaPedus- 2017年4月5日-评论:3

《半导体工程》杂志与高级制版部门主管Gregory McIntyre坐下来讨论光刻和掩模技术[getentity id="22217" e_name="Imec"];[getentity id="22819" comment="GlobalFoundries"]高级研究员兼技术研究高级主管Harry Levinson;David Fried， [getentity id="22210" e_name="Cove…"»阅读更多

EUV抵抗内部
通过马克LaPedus- 2016年11月17日-意见:3

抗蚀剂制造商Inpria的首席执行官Andrew Grenville接受了《半导体工程》杂志的采访，谈论了极紫外(EUV)光刻用的光抗蚀剂。以下是那次谈话的节选。SE:光刻胶是光刻技术的重要组成部分。电阻器是光敏材料。当暴露在光线下时，它们在表面上形成图案。对于EUV来说，它们是至关重要的。世界卫生大会……»阅读更多

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