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标签:eBeam

今天可以制造曲线掩模
通过简•威利斯- 2022年4月21日-意见:0

多波束掩模写入器(mbmw)和gpu加速曲线ILT使今天的曲线掩模成为可能。尽管工艺窗口的改进带来了好处，但曲线掩模的采用是缓慢的。eBeam Initiative在2021年调查的行业知名人士将掩模检测和基础设施列为采用的最大障碍，如图1所示。然而，只有4%的人认为……»阅读更多

调查:2020年eBeam计划年度调查结果
通过eBeam倡议- 2021年7月21日-意见:0

D2S, Inc.的首席执行官Aki Fujimura于2021年4月在日本2021年的Photomask上展示了“eBeam Initiative在Photomask上的年度调查结果”。调查显示，COVID对口罩总收入的业务影响为净中性。到2021年，与covid - 19相关的商业预测为24%的正面对20%的负面。74%的人同意到2023年对EUV HVM进行光化检查，并获得更多结果。点击这里阅读更多。»阅读更多

深度学习在光掩模与晶圆半导体制造中的应用
通过eBeam倡议- 2021年3月17日-意见:0

eBeam Initiative成员的《调查:2021年深度学习应用列表》是目前用于掩模到晶圆半导体制造的深度学习工作的列表。例如ASML、D2S、Fraunhofer IPMS、日立高科技公司、imec、西门子工业软件公司、西门子EDA、意法半导体和TASMIT。由eBeam Initiative Membe发布…»阅读更多

调查:eBeam Initiative Luminaries(以前的感知)调查结果
通过eBeam倡议- 2020年11月18日-评论:0

2020年7月，对42家不同公司的77位行业名人进行的调查显示，2019冠状病毒病对2021年的业务影响为净中性，预测为24%的正面影响，预测为20%的负面影响。按此浏览调查结果。»阅读更多

2019-2020年口罩制造商调查结果
通过eBeam倡议- 2020年10月21日-评论:0

eBeam倡议2019-2020年掩模制造商调查的调查结果。•与去年相比，10家不同的公司报告了558,834个掩模•使用多波束掩模写入器编写的掩模增加了一倍以上•EUV掩模产量报告为91%•前沿节点的MPC使用量增加。»阅读更多

调查:2019年eBeam倡议感知调查结果
通过eBeam倡议- 2020年9月16日-评论:0

2020年eBeam倡议感知调查(现在称为杰出人物调查)的结果将于9月22日开始公布:与此同时，这是第8次年度感知调查- 2019年(7月)。来自42家不同公司的68位杰出人士参与了此次活动。一些亮点:预测到2020年深度学习的影响:76%的受访者表示它有点非常喜欢……»阅读更多

调查:2019年eBeam Initiative掩模制造商调查结果
通过eBeam倡议- 2020年1月22日-意见:0

2019年，eBeam Initiative的多波束掩模调查首次报告•11家公司报告了599,536个掩模•2789个是EUV掩模•=7nm的平均掩模周转时间(TAT)为11天。按此查看调查结果。»阅读更多

EUV年度感知调查- 2019
通过eBeam倡议- 2019年9月18日-评论:0

第八次年度感知调查- 2019年(7月)，来自42家不同公司的68位名人对EUV的使用进行了调查。对EUV的信心仍然很高•73%的人预测到2020年底HVM•光化检查和薄膜前景乐观单击此处查看调查幻灯片。»阅读更多

快速局部配准测量用于高效电子束写入器的鉴定和校正
通过心理契约- 2019年4月9日-评论:0

作者:Klaus-Dieter Roeth, Hendrik Steigerwald, Runyuan Han, Oliver Ache, Frank Laske (KLA-Tencor MIE GmbH，德国)摘要掩模数据表明，局部配准错误可能与最先进的电子束写入带和多通策略相关，与接近2nm的设计相比，可能导致系统器件配准错误。毛……»阅读更多

2018年eBeam倡议感知调查结果
通过eBeam倡议- 2018年12月14日-评论:0

在2018年(7月)第七次年度感知调查中，EUV置信度和多光束仍然很高。EUV感知保持积极。82%的受访者预测到2021年底HVM将出现EUV。只有1%的人预测EUV永远不会出现。对EUV光刻在大批量生产中的信心再次高涨，对EUV光化掩模检测的期望继续增长。对nee的看法…»阅读更多

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