标签:EUV

周评:半导体制造、测试
通过格雷戈里·哈雷- 02年6月,2023 -评论:0

日本和美国贸易官员宣布了一项合资合作路线图在加强全球半导体供应链通过推进Japan-U.S。与新兴国家和发展中国家在印度-太平洋地区合作。中国和韩国同意加强对话与合作与关注半导体行业供应链关键原材料的供应和ensu……»阅读更多

CMOS的历史
通过保罗McLellan- 5月25日,2023 -评论:0

CMOS已经存在了大约50年以来,一个全面的历史书。这个博客关注我认为主要的过渡。之前NMOS CMOS, NMOS(也办公室,但我没有直接的经验)。NMOS门由一个网络之间的N-transistors输出和Vss,和一个电阻(实际上一个晶体管植入)之间的产出和…»阅读更多

协助层:EUV光刻的无名英雄
通过凯瑟琳德比郡4月- 20,2023 -评论:0

最先进光刻的讨论集中在三个元素——曝光系统,光掩模,光阻,但这只是挑战的一部分。成功转移模式的光掩模的物理结构晶片还取决于各种电影合作,包括下层、开发人员,和各种表面处理。事实上……»阅读更多

Nanoimprint终于找到立足点
通过格雷戈里·哈雷4月- 20,2023 -评论:1

Nanoimprint光刻,几十年来已经落后于传统光学光刻技术,正成为首选的技术快速发展光子学和生物芯片市场。首次在1990年代中期,nanoimprint光刻(NIL)一直被视为一个低成本替代传统光学光刻技术。即使在今天,零潜在能力啊…»阅读更多

大规模纳米厚的石墨薄膜(神经生长因子)作为EUV薄膜
通过技术论文链接- 3月18日,2023 -评论:0

一个新的技术论文题为“石墨薄膜:物理保护下一代EUV光刻技术”由渥太华大学的研究人员发表韩国成均馆大学,Hanbat国立大学。抽象的“极端紫外线光刻技术(EUVL)被广泛应用于电子、汽车、军事、和人工智能计算集成电路芯片制造领域。pellicl……»阅读更多

技术预测:工厂过程观察到2040年
通过劳拉·彼得斯3月- 16,2023 -评论:0

半导体的大规模扩散更多的市场和更多的应用程序在这些市场,预计将推动工业到2030年超过1万亿美元。但是在接下来的17年,半导体将达到超出了数字,改变人们的工作方式,他们如何沟通,如何测量和监控他们的健康和福祉。芯片将会使…»阅读更多

生态系统进化的EUV反映2023先进光刻+模式
通过哈里·莱文森3月- 16,2023 -评论:0

正如预期的那样,今年的先进光刻+模式研讨会是一个非常有益的活动,有许多有趣的报纸被呈现在范围广泛的学科。许多文章主题相关前沿的光刻技术,这意味着EUV光刻。与EUV光刻牢固确立在高容量生产(HVM),我们可以看到在表示……»阅读更多

计量策略2 nm流程
通过劳拉·彼得斯- 07年3月,2023 -评论:3

计量和晶片检查过程是跟上不断发展的变化和新设备的应用程序。当工厂地板仍然有足够的强迫症工具,椭圆计,CD-SEMs,新系统正在越来越多的3 d结构的性质和他们结合的新材料。例如,流程等混合成键,3 d NAND闪存设备,nanosheet场效应晶体管是把薄熙来…»阅读更多

流程创新使下一代soc和记忆
通过劳拉·彼得斯2023年2月- 20(-评论:0

实现改善性能先进的soc和包——用于移动应用程序,数据中心,和AI——需要复杂的和潜在的昂贵的架构的变化,材料,和核心制造过程。以下选项中考虑新的计算架构,不同的材料,包括薄势垒层和高th……»阅读更多

设备和晶体管在接下来的75年里
通过劳拉·彼得斯2023年2月- 16(-评论:0

75周年晶体管的发明引发了一场生动的小组讨论在IEDM,刺激讨论未来的CMOS, III-V和二维材料的作用在未来的晶体管,以及将成为下一个巨大的内存架构。[1]行业老兵的记忆,逻辑,和研究社区看到high-NA EUV生产、NAND闪存1000层,混合好…»阅读更多

←旧的文章

  • 赞助商

关于

导航

与我们联系

版权©2013 - 2023 SMG |服务条款|隐私政策
Baidu