如何使用最先进的模型验证工具可以成功应用于项目,以最大限度地重用遗留IP核和验证环境,短的周转时间,和高质量的结果。
关键的挑战:与先进的验证技术,建立一个环境模型成功项目案例,:•最大限度地重用遗留IP核和验证环境•短期周转时间•高质量的结果
客户:全球领先的微控制器(MCU),模拟,权力,和芯片系统(SoC)产品,瑞萨电子公司是半导体制造商,总部位于日本东京。它有生产、设计和销售的大约20个国家的业务。瑞萨的market-proven MCU和SoC产品和技术提供了一个令人兴奋的和各种各样的机会在关键细分市场,如汽车、工业、云计算、医疗保健、和物联网(物联网)。
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传感器技术仍在不断发展,和功能正在被讨论。
学术界、业界伙伴关系斜坡来诱使大学生硬件工程。
球继续减少,但是需要新的工具和技术。
埋藏特征和凹角几何图形驱动应用程序特定的计量解决方案。
问题包括设计、制造、包装、和可观察性都需要解决这种方法成为主流之前对于许多应用程序。
术语往往交替使用时,他们非常不同的技术和不同的挑战。
技术和业务问题意味着它不会取代EUV,但光子学、生物技术和其他市场提供足够的增长空间。
商业chiplet市场仍在遥远的地平线,但公司更早起有限的伙伴关系。
现有的工具可以用于RISC-V,但他们可能不是最有效或高效。还有什么需要?
如何定制、复杂性和地缘政治紧张局势颠覆全球现状。
行业取得了理解老龄化如何影响可靠性,但更多的变量很难修复。
半导体制造的关键支点和创新点。
工具成为硅/锗硅堆更具体,3 d NAND和保税晶片对。
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