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生产时间:11月2日


《微/纳米图案、材料和计量学杂志》(JM3)发表了一篇论文,概述了光刻路线图和未来15年的各种挑战。这篇被称为“设备和系统光刻路线图的国际路线图”的论文预测,极紫外(EUV)光刻和下一代版本将仍然是最重要的。»阅读更多

制造比特:10月27日


一组研究人员展示了一种单分子开关或驻极体,这项技术有一天可能会实现一类新的非易失性存储设备。耶鲁大学、南京大学、人民大学、厦门大学和伦斯勒理工学院已经展示了具有功能记忆的单分子驻极体。还在……»阅读更多

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