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基于二维忆阻交叉阵列和CMOS集成电路的边缘计算混合架构


“采用二维(2D)材料制造集成电路(ic)是半导体行业未来十年的主要目标,因为它可能会扩展摩尔定律,有助于内存计算,并使先进器件的制造超越传统的互补金属氧化物半导体(CMOS)技术。然而,大多数电路恶魔…»阅读更多

基于二维材料的集成电路的发展


二维(2D)材料有可能被用于开发先进的单片集成电路。然而,尽管单个器件和简单电路的演示令人印象深刻——在某些情况下性能优于硅基电路——关于使用2D材料制造集成电路的报道有限,大规模电路的创建也很困难。»阅读更多

电源/性能位:11月16日


九州大学和国立台湾师范大学的研究人员提出了一种基于钙钛矿的“发光存储器”,可以同时存储和视觉传输数据。该团队将这一想法与电阻性RAM (RRAM)结合使用,其中高电阻和低电阻的状态代表1和0。“电气测量需要检查r…»阅读更多

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