改善EUV Si Hardmask性能通过湿化学功能化


在EUV光刻、旋涂硅hardmasks已经广泛使用不仅是腐蚀转移层,也是协助层增强抵抗的光刻性能。在这项研究中,我们将演示一种新颖的方式用旋涂硅hardmasks通过组合官能团通过溶胶-凝胶的方法。通过不同的浓度和类型功能g……»阅读更多

如果Hardmask (Si-HM) EUV和零缺陷


光刻技术中使用的多层系统由一个区域碳层下hardmask etch-transferring层和限制标准光刻胶涂层。在过去,布鲁尔科学深入讨论了多层系统如何帮助延长ArF(193海里)浸没式光刻比重能够打印和传输特性,确保足够的窗口过程尤其是……»阅读更多

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