表面硅Hardmasks自适应吗?


硅hardmask (Si-HM)材料在光刻过程中扮演至关重要的角色转移模式所需的基质。此外,这些材料使反射率等光学性能的调优和光学光刻分布更好。Si-HM材料还需要具备良好的兼容性与光阻前后光学曝光,在…»阅读更多

如果Hardmask (Si-HM) EUV和零缺陷


光刻技术中使用的多层系统由一个区域碳层下hardmask etch-transferring层和限制标准光刻胶涂层。在过去,布鲁尔科学深入讨论了多层系统如何帮助延长ArF(193海里)浸没式光刻比重能够打印和传输特性,确保足够的窗口过程尤其是……»阅读更多

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