推动EUV掩模修补的局限性:解决sub-10纳米缺陷与下一代e-beam-based面具修理工具

通过技术论文链接- 07年12月,2021 -评论:0

文摘”面具的修复是一个重要的一步生产过程的极端紫外线(EUV)面具。其关键的挑战是不断地提高分辨率的修复和控制,使微型特征尺寸在面具的EUV路线图。最先进的面具修复方法是辅助电子束光刻(电子束)也称为聚焦电子束……»阅读更多

需求,300 mm设备交货期飙升

通过马克LaPedus——5月20日,2021 -评论:0

各种芯片的需求激增导致选择短缺和延长交货期对于许多类型的300毫米半导体设备、光掩模工具,晶片等产品。过去几年中,200 mm设备已经在市场上供不应求,但现在问题出现在300毫米的供应链,。传统上,交货期已经三到六山……»阅读更多

通过马克LaPedus- 9月25日,2017 -评论:5

动量是建筑极端紫外线光刻技术(EUV),但是仍有一些重大挑战之前解决这迟来的技术可以用于大规模生产。[gettech id = " 31045 "评论= " EUV "] lithography-a下一代技术,模式小功能芯片应该进入生产约2012。但这些年来,EUV遇到了se……»阅读更多