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技术论文

推动EUV掩模修补的局限性:解决sub-10纳米缺陷与下一代e-beam-based面具修理工具

高端维修等EUV掩sub-10-nm挤压了最新一代的e-beam-based面具修复工具,绩效®勒

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文摘
”面具的修复是一个重要的一步生产过程的极端紫外线(EUV)面具。其关键的挑战是不断地提高分辨率的修复和控制,使微型特征尺寸在面具的EUV路线图。最先进的面具修复方法是辅助电子束光刻(电子束)也称为聚焦电子束诱导处理(FEBIP)。我们讨论的原则FEBIP修复过程,随着标准来评估维修,确定可行的决议和识别的主要贡献。作为关键的结果,我们提出几个高端维修等EUV掩sub-10-nm挤压了最新一代的e-beam-based面具修复工具,绩效®勒。此外,我们证明了相应的修复验证使用at-wavelength(光)测量。”

找到这里的技术论文。2021年9月。

嗨岁迈克尔•Waldow伦佐·卡佩里,霍斯特•施奈德,劳拉Ahmels,你粉丝,Johannes Schoneberg胡伯图斯马尔巴赫。卡尔蔡司SMT GmbH(德国)



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