为什么计算驱动光掩模的变化的变化


阿基》的首席执行官d2,与半导体工程商谈大规模改进计算基于密度增加芯片,以及为什么印刷曼哈顿形状光掩模上不再足以打印高性能设备每次预测的可靠性。他解释了为什么一个不连续在EDA物理设计打开门打印曲线世鹏科技电子…»阅读更多

下一代光掩模的尚未解决的问题


专家们表:半导体工程坐下来讨论光学和EUV光掩模问题,以及面具业务所面临的挑战,与直Hayashi DNP研究员;彼得•巴克MPC &掩模缺陷管理主任西门子数字行业软件;资深的技术战略总监布莱恩Kasprowicz球兰;和阿基》d2的首席执行官。f…»阅读更多

面具建模的EUV时代


d2评论面具建模的EUV时代的挑战,包括需要剂量/分离和中档修正形状,和GPU加速的影响。https://youtu.be/iVqkoVMbK4o»阅读更多

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