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为什么计算的变化会推动掩模的变化

不同的掩模形状如何提高半导体的可靠性和性能。

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D2S首席执行官Aki Fujimura与Semiconductor Engineering讨论了基于芯片密度增加的计算的巨大改进,以及为什么在掩模上打印曼哈顿形状不再足以每次都打印具有可预测可靠性的高性能器件。他解释了为什么EDA物理设计中的不连续为在掩模上打印曲线形状打开了大门。



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