标签:发光

下一代光掩模的尚未解决的问题
通过马克LaPedus- 2月17日,2022 -评论:0

专家们表:半导体工程坐下来讨论光学和EUV光掩模问题,以及面具业务所面临的挑战,与直Hayashi DNP研究员;彼得•巴克MPC &掩模缺陷管理主任西门子数字行业软件;资深的技术战略总监布莱恩Kasprowicz球兰;和阿基》d2的首席执行官。f…»阅读更多

在工厂工具技术的下一个什么?
通过马克LaPedus——5月12日,2021 -评论:0

专家在餐桌上:半导体工程坐下来讨论极端紫外线(EUV)光刻和其他与Jerry Chen下一代工厂技术,全球业务发展制造业和工业主管Nvidia;计算产品的副总裁大卫•油炸林研究;营销副总裁Mark Shirey说,和应用程序在心理契约;和安琪Fuj……»阅读更多

追求曲线光掩模
通过马克LaPedus——4月15日,2021 -评论:1

半导体产业上取得明显进展高级曲线光掩模的发展,对芯片设计技术,有着广泛的含义在最先进的节点和能力制造这些芯片更快、更便宜。现在的问题是,当将该技术超越niche-oriented地位,加大进入量产阶段。因为你们…»阅读更多

点评:制造业的一周
通过马克LaPedus——5月16日,2014 -评论:0

IC的见解已经发布了第一季度的排名14前25位半导体供应商。外的排名的前五位,有很多变化。联发科跳起来四个位置。另外,去年的微米/尔必达合并创建了一个新的半导体巨头与微米的销售预计将在今年的170亿美元。东芝将拆除第二半导体制造facilit……»阅读更多

一对一:Linyong庞
通过马克LaPedus——5月12日,2014 -评论:1

半导体工程坐下来讨论趋势和Linyong光刻、光掩模的业务“狮子座”庞,新的首席产品官和执行副总裁在d2,专注于基于模型的面具数据准备以及其他面具写作技术。以下是摘录的谈话。SE:在你抵达d2在发光,这……»阅读更多

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