周评:半导体制造、测试


台积电是发达与关键供应商商谈建立它的第一个潜在的欧洲植物在德累斯顿,德国,据日经亚洲。公司举行3 nm批量生产和产能扩张仪式在其工厂18。台积电也是3 nm能力建设在亚利桑那州的网站,以及在新竹科学园区开一个全球研发中心在2023年第二季度,…»阅读更多

技术论文聚拢:4月19日


新技术论文包括选择性蚀刻,ISO 26262试验台硬件加速器,RISC-V,激光雷达,EUV掩码检查,故障攻击,边缘计算、氧化镓和机器学习VLSI CAD-on-chip电网设计。尖端的研究已经扩展到了全球。它从美国空军延伸,如麻省理工学院、学校和大学在意大利、西班牙、葡萄牙、印度、K……»阅读更多

制造业:3月16日


跳闸了神经网络多年来,俄罗斯在研发一直是一个活跃的领域。在一个例子中,俄罗斯的斯科尔科沃科技研究所(Skoltech)演示了如何某些模式可以使神经网络识别图像中犯错。利用这背后的理论研究,Skoltech可以设计防御模式识别系统t是脆弱的……»阅读更多

制造业:9月29日


探索化学反应使用EUV东京大学建立了设施使用连贯研究快速化学反应极端的紫外线光源。新的相干极端紫外线(远紫外线)源设施使研究人员探索时间的现象,如超快的生物化学反应或物理样本。位于地下fa……»阅读更多

制造业:9月25日


模拟夸克和胶子美国能源部橡树岭国家实验室的模拟亚原子粒子是世界上最强大的超级计算机。这些粒子系统模拟速度超过70倍的前任。更具体地说,橡树岭是超级计算机模拟在该公司最近发布的夸克和胶子峰会。简而言之,…»阅读更多

EUV领域的新问题


极端紫外线(EUV)光刻正在接近生产,但问题的变化,还被称为随机赶超重修的迟来的技术,创造更多的挑战。GlobalFoundries、英特尔、三星和台积电希望插入[gettech id = " 31045 "评论= " EUV "] 7纳米光刻技术投入生产和/或5海里。但是,EUV由几种混合涂料……»阅读更多

TFETs削减的亚阈值摆


的一个主要障碍继续晶体管扩展是功耗。门的长度减少,亚阈值摆(SS)所需的栅电压变化的漏极电流-增加一个数量级。张秦、魏赵,圣母大学的Alan Seabaugh解释2006年,学生面临着理论在室温下至少60 mV /十年在传统莫…»阅读更多

系统信息:12月27日


量子相变晶体的电子确认基本融化在量子力学中,从理论上提出了80多年前而不是实验记录直到现在,麻省理工学院的研究人员报告说,他们已经观察到一个高度有序的晶体的电子在半导体材料和记录其融化,就像冰融化成水。研究小组说我……»阅读更多

制造业:6月14日


3 d打印神经网络欧盟委员会(European Commission)已经启动了一个程序,将复制使用3 d nano-printing大脑的神经网络。程序,被称为MESO-BRAIN财团获得了一个奖项的€330万年欧盟委员会资助。阿斯顿大学领导的这项研究,也涉及Axol生物科学,激光中心的,巴塞罗那大学的…»阅读更多

制造业:3月29日


Brain-inspired计算劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)购买了Brain-inspired超级计算平台由IBM开发的深度学习研究。基于一个叫做IBM TrueNorth neurosynaptic计算机芯片,可伸缩的平台将过程相当于1600万个神经元和40亿个突触。它将消耗的能量相当于一个平板电脑……»阅读更多

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