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凹凸高度均匀性和三维传感


在添加光刻胶之前,必须实现半导体凹凸高度均匀性的3D传感。但使用传统方法测量镀铜后的均匀性存在挑战,这需要结合3D条纹投影技术和纳米分辨率检测和计量。以下是我们在凹凸高度均匀性案例研究中所学到的内容:»阅读更多

晶圆凹凸检测面临越来越大的挑战


随着先进封装成为主流,确保晶圆凸点的一致性已成为晶圆代工厂和osat的关键问题。CyberOptics的计算机视觉工程经理John Hoffman谈到了向中线的转变以及这是如何影响检测和计量的,为什么对共面性和对齐有如此多的关注,变化是如何叠加和创造的……»阅读更多

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