让我们来看看掩模技术收入激增的背后是什么。
过去几年，半导体行业一直顺风顺水，这一上涨的潮流提升了供应链上的各个环节。尤其是掩模市场，在2017年和2018年分别实现了13%和8%的异常强劲增长。考虑到在本世纪头十年的早期到中期，掩模市场的年平均增长率不到4%，这种热潮是惊人的。过去两年与此前10年(2006年至2016年)之间的差距非常显著。在此期间，掩模市场的年营收徘徊在30亿美元左右，10年复合年增长率仅为1%。
是什么推动了这种历史性的强劲增长?几个因素，包括193nm浸泡和其他深紫外(DUV)光刻与多重曝光/图案技术的扩展。所有都需要多个面具。更重要的是，物联网(IoT)正在引发对200mm晶圆厂旧口罩的需求复苏，而商用口罩制造商在这一领域处于有利地位。最后，2018年三星推出了延迟已久的极紫外(EUV)光刻技术，但对增长的影响较小。今年早些时候，台积电在其第二代7nm器件中实现了EUV光刻。两家公司都将在他们的5nm设计中使用EUV。英特尔将在其7nm节点上插入EUV，这大致相当于三星和台积电的5nm节点。虽然目前的EUV掩模量是名义上的，但其平均销售价格却不是。
从历史上看，EUV技术在投入生产之前，必须比光刻技术更具成本效益。如今的问题是，随着工艺复杂性的增加，EUV在减少掩模数量、提高图案保真度和持续提高电能产出方面的承诺变得更加引人注目。尽管有这些优点，但EUV薄膜就绪性、次优抗蚀剂以及缺乏强大的光化检测工具等技术挑战继续阻碍EUV技术的大规模推广。
上个月，SEMI报告称，2018年全球半导体掩模市场创下历史新高，达到40亿美元。SEMI还指出，自世纪之交以来，由于制造领先口罩所需的资本支出不断增加，专有口罩供应商的市场份额大幅提高。然而，商家商店去年确实设法从俘虏商店夺回了一个百分点——俘虏商店占据了64%的市场份额，而2017年为65%，这主要是因为更先进的(45纳米以下)掩模在其总销售额中占了更大的比例。
SEMI最近发表的一份报告，掩模特性总结，提供了包括北美、日本、欧洲、台湾、韩国、中国和世界其他地区在内的七个地区的2018年掩模市场的详细信息。该报告还包括2003年至2020年每个地区的数据，并总结了过去一年光刻技术的发展。
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