专家在餐桌上:挑战20海里

第二个三部分组成:光刻的遗产;焦点转移到建筑的改进;脆弱的工具流和自定义脚本;为彻底改变进化改进;更加严格的设计规则。

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埃德·斯珀林
低功耗、高性能工程坐下来讨论的挑战在20 nm和jean - pierre Geronimi之外,意法半导体特别项目主任;硅产品营销主管皮特•McCrorie实现节奏;凯里Robertson导师图形产品营销总监;和伊莎Katz,总裁兼首席执行官CLK设计自动化。以下是摘录的谈话。

LPHP:看起来怀疑EUV将20 nm甚至在14 nm。在那之后会发生什么?
McCrorie:一旦你越过三模式变得不合理的管理。现在的问题是EUV会之前过去的三重模式。我们现在试图管理三重模式。我们看现在15 nm和14 nm,确保启用,但我们不知道会发生什么。超越三重模式我甚至会质疑是否可行的去那里。

LPHP除此之外:你在看什么?
McCrorie我现在不能讨论。
Geronimi:有很多不确定性。很明显有投资EUV。直到EUV准备好了,不过,我们将使用多重图像。

LPHP:但不会签收是真的画出结果吗?
Geronimi:EUV只是更好的摄影。
卡茨:人们锻炼solutions-everything简化布局,减少设计的晶体管的数量在任何时候。现在有技术被应用在当前范例为双模式增加可靠性。这些技术可以扩展到更低的特征尺寸。现在有一个种族之间的大设备制造商添加的东西可以写在下一个维度足够快以满足大规模商业生产。有很多钱在蚀刻下一代特征尺寸。

LPHP:假设我们做得到解决,我们仍然有很多房地产在soc和复杂性,内核运行在不同的速度和不同的电压。我们从设计的角度看,有什么关系呢?
卡茨:我们总是讨论系统集成芯片的概念我们离散系统。我们现在做的是全新的一代又一代的系统放在一个死。你不会看到人们增加时钟速度,所以所有的改进都是架构。这将是极其复杂的系统具有更多的功能。说,的工具流构造非常脆弱。脚本在每个工具的数量和流量,使它们的工作是巨大的。在大多数情况下,写下这些脚本的人并不在同一个工作了。流并不是真正适合的工具有很多的变化。当你谈论到芯片的IP,然后你层在处理多模更具创新性,multi-corner,以及什么是流签收,当它变得非常复杂和昂贵的。每个人都希望一个进化适应剧烈变化的改善他们的流在物理布局。 Those things don’t fit well together.
McCorie:写脚本的人仍然是相同的人编写的脚本。这些脚本被新手支持工程师。他们知道的来龙去脉。将所需脚本更改。我同意这一点。他们使用最简单的脚本吗?可能不会。最先进的客户是用来处理的最新技术。对于普通客户,情况并非如此。我同意脚本有问题,但是他们一个祸端。 And they’re certainly maintained by the right people.
卡茨:有一个整体的脚本。为人民做A15核心,他们完全更新。对于其他商店,有遗留的脚本。写的人可能是也可能不是。但这不仅仅是一个脚本。这是整个复杂的堆栈,从系统级描述在整个布局。
罗伯逊:在20海里,没有普通客户。这些工具需要一起工作得很好,但他们也需要工作的方式non-average客户可以使用它来创建设计IP和最佳实践。这就是为什么脚本首先开始。这就是他们的价值添加超出导师或节奏可以提供。但是他们没有提供框架。有自动化工具和之间的平衡一定仍然允许灵活性和自定义脚本为一个先进的客户。
Geronimi:有许多客户提供先进的技术。一开始它是有限的,除非他们做一些通用的,这不是很有用。

LPHP:你能培养足够的芯片之间的一致性和下一个更快的上市时间和更快的结果吗?
罗伯逊:必须有灵活性的基础上我们提供的工具。对于所有的客户,他们会去一些铸造厂,有一致的设计规则手册和一致的香料规则手册。不幸的是,这些大客户用于获得很多关注,身体灵活性的设计规则和可能是越来越窄。有严格的设计规则,某些方面你可以制定你的晶体管,并有可能当我们到达finFETs更严格的规则。所以他们的手被绑越来越多,和工具需要坚持铸造厂说他们可以生产。然后在设计流你总是可以调整,但会有最佳实践可以证明。我们需要继续创新和更好的集成工具。在一个跨多个公司,公司的工具和工具都是脆弱的。但我们将提供层的灵活性以便客户集成模拟IP数字IP上,这是相当一致的从一个公司到另一个。
McCrorie:看不同的代工厂,没有激进的区别在20海里。它们都使用同样的设备做这个东西,所以他们一起放了相同的拼图。我们得到了来自多个客户的需求。客户说一件事,客户说,另一个,但你最终发现,他们都想要同样的事情。这是正常的成熟过程的一部分。然后你仍然有一个覆盖的IP,个别客户有什么区别。

LPHP圣是面临的最大问题是什么?
Geronimi:我们需要看看得到解决,仍然需要解决。最大的问题是power-reducing权力。有不同的方法。一种方法是完全耗尽SOI下一代的晶体管。其余的在双模式。因为我们是接近技术我们有一个好的理解的物理效果,但它仍然需要时间,因为您需要在硅实验。

LPHP:你还能在高级节点工程更改订单吗?
McCrorie:如果我们继续做ECOs我们今天做的方式,没有。它太复杂了。但EDA行业关注尽可能自动化,所以新的挑战来自导致创新在软件行业,这有助于ECOs经历更为顺利。DFM需要。这将是一个全新的流,我们必须工作。
卡茨通过增量流:人们需要思考。你无法从这里到达那里。当我们进入20 nm和14 nm,角落里爆炸。有温度,过程中,电压,和所有的不同的模式和金属的角落。你有一个非常大的数字为在某些情况下今天100 - +角落签收。



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