追求曲线光掩模


半导体产业上取得明显进展高级曲线光掩模的发展,对芯片设计技术,有着广泛的含义在最先进的节点和能力制造这些芯片更快、更便宜。现在的问题是,当将该技术超越niche-oriented地位,加大进入量产阶段。因为你们…»阅读更多

下一代光刻技术在哪里?


半导体工程坐下来讨论光刻和格雷格•麦金太尔光掩模技术和先进模式部门主任Imec;哈里·莱文森高级研究员和高级技术研究主管GlobalFoundries;Uday Mitra副总裁和腐蚀的业务战略和营销主管单位和模式模块应用材料;Haya直…»阅读更多

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