标签:variable-shape梁

追求曲线光掩模
通过马克LaPedus——4月15日,2021 -评论:1

半导体产业上取得明显进展高级曲线光掩模的发展,对芯片设计技术,有着广泛的含义在最先进的节点和能力制造这些芯片更快、更便宜。现在的问题是,当将该技术超越niche-oriented地位,加大进入量产阶段。因为你们…»阅读更多

EUV薄膜,正常运行时间和抵制问题继续
通过马克LaPedus——2018年9月26日-评论:0

极端紫外线(EUV)光刻正在接近实现,但几个问题涉及扫描仪正常运行时间、光阻和薄膜之前需要解决这迟来的技术投入全面生产。英特尔、三星和台积电希望EUV插入生产7和/或5 nm。而其余问题不一定使用EUV先发制人,他们做affec……»阅读更多

下一代面具作家比赛开始了
通过马克LaPedus- 10月19日,2017 -评论:5

竞争是面具加热作家设备业务两个vendors-Intel / IMS和NuFlare-vie在新的和新兴的多波束工具领域的地位。去年,英特尔惊讶这个行业通过收购IMS纳米加工,多波束电子束面具作家设备供应商。同样在去年,IMS,英特尔的一部分,现在开始航运世界第一多波束面具作家f……»阅读更多

大的变化模式
通过埃德·斯珀林2017年2月- 22(-评论:0

首席执行官阿基》[getentity id = " 22864 "评论=“d2”],坐下来与半导体工程在10纳米,下面讨论模式问题,包括面具对齐,GPU加速的需要,EUV的未来影响的面具,总数和脊髓的曲线形状将意味着设计。SE:模式问题是得到很多关注10 nm和7 n…»阅读更多

光掩模内写
通过马克LaPedus——1月19日,2017 -评论:0

鸠山先生的山田,董事会成员和掩模光刻部门主任NuFlare,坐下来与半导体工程讨论光掩模技术,电子束面具作家趋势和其他话题。NuFlare是世界上最大的供应商电子束面具的作家。以下是摘录的谈话。SE: [getkc id = " 265 " kc_name =“光掩模”)市场看看……»阅读更多

多波束市场升温
通过马克LaPedus——3月17日,2016 -评论:3

多波束电子束面具作家业务正在升温,随着英特尔和NuFlare分别进入新兴市场。在一个惊人的举动,[getentity id = " 22846 " e_name =“英特尔”)收购IMS奈米制造的过程中,一个[gettech id = " 31058 " t_name = "多波束电子束"]设备供应商。,另外,电子束巨头NuFlare最近披露其新多波束面具作家t…»阅读更多

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