制造:1月29日


使用热光刻技术称为热扫描探针光刻,纽约大学(NYU)和其他人已经报道的一个突破制造二维半导体。技术,研究者们设计了金属电极与肖特基壁垒消失在2 d基于二硫化钼半导体(MoS₂)。热扫描探针光刻,有时被称为t -…»阅读更多

发生了什么Nanoimprint得病吗?


Nanoimprint光刻(NIL)重现在爆炸的新应用市场。Nanonex佳能、电动汽车集团,发现和其他人继续发展和船舶零系统的一系列的市场。NIL是不同的比传统的光刻和类似于冲压工艺。最初,光刻系统形成了一个基于预定义的模板设计模式。这时,一个布局……»阅读更多

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