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制造比特:10月5日


在最近的SPIE掩模技术+ EUV光刻会议上,日本高能加速器研究组织(KEK)发表了一篇论文,介绍了其为极紫外(EUV)光刻开发自由电子激光(FEL)存储环源功率单元的最新努力。KEK已经展示了概念验证EUV-FEL,该产品一直处于研发阶段。EUV-FEL……»阅读更多

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