标签:EUV抗拒

映射光刻技术的未来
通过哈里·莱文森2023年2月- 16(-评论:0

有先进光刻+模式(AL + P)研讨会石版家始终是一个有用的事件,和看着推进计划,看来AL + P 2023也不例外。关键石印挑战过程中正在取得的进展一直感兴趣的参与者,而且会有很多及时的报告,解决当前问题的意义。例如,r……»阅读更多

金属氧化物抵制DRAM(铁道部)EUV光刻过程的应用程序
通过电话- 10月19日,2022 -评论:0

本文报告准备的关键EUV抵抗过程技术使用金属氧化物抵制(铁道部)DRAM的目标应用程序。铁道部,减少金属污染和CD一致性(CDU)是关键性能需求预期有关接触后烤(PEB)。基于多年的经验与自旋对类型Inpria铁道部,我们设计了一个新的钢炉实现污染……»阅读更多

未来的模式
通过简•威利斯——5月18日,2017 -评论:0

imec的先进模式主管格雷格•麦金太尔提供了他的思想工作是什么样子的世界领先的纳电子学研发中心,以及eBeam光刻技术的重要性和面具,抬高信心EUV,和最新imec的合资企业与JSR EUV抵制发展。[youtube视频= q8cA_9rWecU]»阅读更多

多波束市场升温
通过马克LaPedus——3月17日,2016 -评论:3

多波束电子束面具作家业务正在升温,随着英特尔和NuFlare分别进入新兴市场。在一个惊人的举动,[getentity id = " 22846 " e_name =“英特尔”)收购IMS奈米制造的过程中,一个[gettech id = " 31058 " t_name = "多波束电子束"]设备供应商。,另外,电子束巨头NuFlare最近披露其新多波束面具作家t…»阅读更多

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