标签:电子束光刻技术

直接合成平面(二维)微观和Nanopatterned碳化硅外延石墨烯
通过技术论文链接- 7月28日,2023 -评论:0

技术论文题为“直接合成nanopatterned碳化硅外延石墨烯”被悉尼科技大学的研究人员发表,Ludwig-Maxilimians大学慕尼黑,莫纳什大学和伦敦帝国理工学院。文摘:本文介绍了一个简单的方法直接合成transfer-free, nanopatterned外延石墨烯……»阅读更多

深度学习(DL)应用在光掩模半导体晶圆制造
通过eBeam倡议3月- 15,2023 -评论:0

eBeam倡议发表的成员公司(2023年2月),这个列表所使用的人工智能(AI)系统的成员公司在半导体制造产品显示了进步。新系统使用人工智能的例子包括:图像处理和参数调优掩模光刻工具计量系统中b样条控制点生成工具sem……»阅读更多

机器学习入侵IC生产
通过马克LaPedus- 10月18日,2018 -评论:0

半导体工程坐下来讨论人工智能(AI),机器学习,和芯片与阿基光掩模制造技术》的首席执行官d2;杰里·陈,商业和生态系统在Nvidia开发经理;资深技术专家平Nakayamada NuFlare;和产品区域经理主管和米凯尔Wahlsten Mycronic。以下是摘录…»阅读更多

MEMS在哪里可以大胆地走了吗
通过杰夫Dorsch- 06年11月2017 -评论:1

MEMS芯片设计进入人体的生物传感器,这需要独特的包装。作为辅助的需求增长和自动驾驶,MEMS设备也正在寻找新的用例在汽车电子产品,他们的主要细分市场年之前。压力传感器,如那些监测轮胎气压,保持最大的类型(getkc我…»阅读更多

确保芯片生产过程
通过埃德·斯珀林- 07年7月,2016 -评论:0

主席大卫·林多波束,坐下来与半导体工程能谈谈下一代光刻工具可以用来防止网络攻击和伪造的硬件。SE:你怎么进入防伪业务?林:大约三年前我们处理一些客户问题的造假问题。我们意识到的感觉啊……»阅读更多

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