先进制造和保护面具


半导体工程坐下来讨论光刻和布莱恩Kasprowicz光掩模的趋势,技术总监和策略和一个杰出的成员在光电池的技术人员;托马斯•Scheruebl蔡司战略业务发展和产品战略主管;资深技术专家平Nakayamada NuFlare;和阿基》d2的首席执行官。符合什么……»阅读更多

与EUV掩模制造问题


半导体工程坐下来讨论光刻和布莱恩Kasprowicz光掩模的趋势,技术总监和策略和一个杰出的成员在光电池的技术人员;托马斯•Scheruebl蔡司战略业务发展和产品战略主管;资深技术专家平Nakayamada NuFlare;和阿基》d2的首席执行官。符合什么……»阅读更多

面具制造商担忧增长


光掩模正变得越来越复杂和昂贵的每个节点,从而在若干领域创造了许多挑战。首先,功能(getkc id = " 265 " kc_name =“光掩模”]变得更小和更复杂的在每个节点。第二,每mask-set面具的数量正在增加由于多个模式。第三,它花费更多的资金去建造和装备一个新的面具工厂……»阅读更多

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