周评:制造、测试


工厂工具林研究推出了两个新工具用于3 d NAND的生产。第一个工具,叫做向量DT,面向背后沉积。EOS GS,第二个系统是湿蚀刻工具除电影背后,斜。控制晶片设计的3 d弓与非制造业,向量DT的系统是最新的除了林plasma-enhanced化学……»阅读更多

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