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标签:VLSI技术研讨会

新材料新设备打开大门
通过凯瑟琳德比郡- 7月21日,2022 -评论:0

将2 d材料集成到传统的半导体制造过程可能是一个更为激进的芯片产业历史上的变化。虽然有痛苦与半导体制造的任何新材料的引入,过渡金属dichalcogenides (tmd)支持各种新设备的概念,包括BEOL晶体管和单-…»阅读更多

进展的通用量子计算机
通过凯瑟琳德比郡10月- 21,2021 -评论:0

比赛在扩大量子计算,将它从一个深奥的研究工具转变为一个商业上可行的,通用的机器。专用量子计算机已经存在好几年了。递波系统的优势集中在特定类型的问题,适合作为量子系统建模。不过,有一个通用的终极目标小狗……»阅读更多

堆叠Nanosheets和Forksheet场效应晶体管
通过凯瑟琳德比郡8月19日,2021 -评论:0

后接下来gate-all-around场效应晶体管仍在制定当中,但它可能会涉及一些版本的堆叠nanosheets。先进的晶体管的设计是一个权衡。一方面,它花费更少的栅极电容控制薄通道。另一方面,薄薄的渠道不能携带尽可能多的驱动电流。堆叠nanosheet试图调和这两个目标的设计……»阅读更多

为未来FD-SOI菌株
通过凯瑟琳德比郡- 11年7月,2016 -评论:0

FD-SOI支持者面临的挑战之一是需要提供一个途径来提高性能。虽然FD-SOI晶片提供一些显著的优势,超过大部分硅片,性能增强应变和材料替代频道更薄SOI环境中难以实现。另一方面,一旦工厂愿意将浇筑层转移……»阅读更多

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