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Nova METRION用例


几个用例,我们将探讨新星METRION®系统包括污染控制,过程偏移预防、反应器匹配和均匀性控制。这些用例的目标是检测污染物可以杀死设备,改善阻挡层和源/排水功能,维持沉积均匀性影响下游流程,并确保薄片……»阅读更多

控制均匀性的优势


芯片制造商想要晶片生产的每一部分,或收益,好死。进步过程技术多年来做了这个现实,即使功能维度继续萎缩和设备变得越来越复杂。现在,最后一个前沿是提高产量在晶片的边缘——外10毫米左右,化学,物理,甚至热discontinuitie……»阅读更多

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