四种高价值用例，为半导体制造商减少废料、节省资金并提高生产率。
我们将探索Nova METRION®系统的几个用例，包括污染控制、过程偏移预防、反应器匹配和均匀性控制。这些用例的目标是检测可能杀死器件的污染物，改善阻挡层和源/漏功能，保持影响下游工艺的沉积均匀性，并确保晶圆与晶圆的一致性。
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