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等离子体处理超越CMOS的先进微电子技术


N. Marchack, L. Buzi, D. B. Farmer, H. Miyazoe, J. M. Papalia, H. Yan, G. Totir, and S. U. Engelmann,“超越CMOS的先进微电子等离子体处理”,应用物理杂志130,080901 (2021)https://doi.org/10.1063/5.0053666摘要“等离子体放电及其材料相互作用的科学研究对半导体工艺的发展至关重要。»阅读更多

离子植入器市场升温


离子植入器市场一直是一个稳定的,如果不是死气沉沉的,业务。上一次重大事件发生在2011年,当时应用材料公司收购了全球领先的离子植入器供应商瓦里安,重新进入离子植入器市场。这次收购使应用材料公司占据了植入器业务80%的份额,而其他公司则在争夺微薄的份额。但一年之后……»阅读更多

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