量子阱间带半导体激光器高度容忍混乱


抽象”III-V半导体激光器集成Si-based光子产业平台都热切期待的大规模应用,从连接到芯片上的感应。目前的理解是,只有量子点激光器可以合理地运作产生的位错密度高III-V-on-Si异质外延,导致高无辐射载体重组……»阅读更多

制造业:7月20日


干扰EUV光刻大学开发了一个独立的干涉极端紫外线(EUV)光刻工具用于研发应用。这个系统,称为埃米尔(EUV Micro-interference光刻设备),主要用于加速EUV光阻和相关的晶片的发展过程。系统是不同的比ASML EUV光刻扫描仪,这是……»阅读更多

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