协助层:EUV光刻的无名英雄


最先进光刻的讨论集中在三个元素——曝光系统,光掩模,光阻,但这只是挑战的一部分。成功转移模式的光掩模的物理结构晶片还取决于各种电影合作,包括下层、开发人员,和各种表面处理。事实上……»阅读更多

DSA,多波束取得稳定的进步


半导体工程坐下来讨论当前和未来的光刻技术挑战与劳伦疼痛,光刻CEA-Leti实验室经理。以下是摘录的谈话。在光刻SE: CEA-Leti两大项目。一个在定向自组装(DSA),另一个是在多波束电子束。让我们开始与多波束。什么是Leti在多波束和做什么……»阅读更多

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