光掩模挑战3 nm和超越


专家们表:半导体工程坐下来讨论光学和EUV光掩模问题,以及面具业务所面临的挑战,与直Hayashi DNP研究员;彼得•巴克MPC &掩模缺陷管理主任西门子数字行业软件;资深的技术战略总监布莱恩Kasprowicz球兰;和阿基》d2的首席执行官。f…»阅读更多

先进制造和保护面具


半导体工程坐下来讨论光刻和布莱恩Kasprowicz光掩模的趋势,技术总监和策略和一个杰出的成员在光电池的技术人员;托马斯•Scheruebl蔡司战略业务发展和产品战略主管;资深技术专家平Nakayamada NuFlare;和阿基》d2的首席执行官。符合什么……»阅读更多

晶圆厂满足机器学习


阿基》的首席执行官d2,坐下来与半导体工程讨论摩尔定律及光掩模技术。》也解释了人工智能和机器学习是如何影响集成电路产业。以下是摘录的谈话。SE:一段时间,你说我们需要更多的计算能力。所以我们需要更快的芯片在高级节点,但成本…»阅读更多

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