周评:制造、测试


包装和测试效果显著和PDF的解决方案已经推出了他们的第一个联合开发提供自2020年形成伙伴关系。新产品被称为显著云解决方案的动态参数测试(ACS DPT)解决方案。它集成了PDF Exensio组合解决方案的数据分析与效果显著的V93000参数测试系统。ACS DPT的解决方案是设计op……»阅读更多

EUV到来,但更多的问题


EUV已经到来。经过几十年的发展和数十亿美元的投资,EUV光刻占据中心舞台在世界领先的晶圆厂。20多年ASML极端紫外线光刻技术研究项目开始后,和近十年后首次接触预生产工具,公司预计在2019年交付30 EUV曝光系统。这几乎是房子……»阅读更多

制造业:8月29日


同步加速器EUV来源一段时间紧凑,该行业一直在探索下一代能源的开发极端紫外线光刻技术(EUV)。ASML和Gigaphoton单独开发EUV来源基于传统和紧凑laser-produced-plasma(垂直距离)技术。然后在研发,别人是我们探索未来的发展EUV来源……»阅读更多

点评:制造业的一周


工厂材料/工具的参考项目,创建一个泛欧洲研究项目开发射频绝缘体(RF-SOI)技术,最近推出了Bernin,法国Soitec的设施。Soitec项目负责人在集团有一个合格的预算为3300万欧元。该项目将重点发展技术4 g +通讯usi……»阅读更多

点评:制造业的一周


联盟由IBM研究产生了半导体行业的第一个7纳米测试芯片功能的晶体管。突破,完成与GlobalFoundries和三星合作纽约州立大学理工学院的纳米科学与工程学院,可能导致地方的能力超过200亿小开关,或芯片上的晶体管。有我…»阅读更多

EUV取得进展吗?


由安Steffora Mutschler &埃德·斯珀林EUV已经承诺了几十年,指望至少也是三个流程节点,并认为自22纳米芯片制造的关键。已经投资了数十亿美元的研发、工程团队来自世界各地的发展,作出了贡献,仍然存在严重的问题。只是距离…»阅读更多

制造业:3月17日


EUV光源公司寻求帮助在2012年,一家名为Zplasma出来的隐形模式,推出了其第一技术新一代电源极端紫外线光刻技术(EUV)。但在喝彩声中,希望之后,Zplasma一直无法商业化其EUV光源技术。该公司还无法吸引发展伙伴或外部资金。和t…»阅读更多

更多的光刻选项?


石印工面临一些艰难的决定在10纳米。在这些节点,IC制造商仍在权衡各种模式选项。使它更加困难,石版家很快就会有一些新的和潜在的破坏性,选项放在桌子上。在一个方面,传统的下一代光刻技术(天然气凝析液)技术是最后做一些明显的进步。进行了…»阅读更多

点评:制造业的一周


多年来,芯片制造商试图在印度建立晶圆厂。然而,到目前为止,印度未能建立现代晶圆厂并有充分的理由。有问题而言,获得可靠的电力和水的工厂在印度,根据施特劳斯,总统提出的概念,他补充说,印度也遭受政府的官僚机构。印度仍在。上周,板球半导体…»阅读更多

点评:制造业的一周


经过几个月的关系谈判,IBM同意交出其微电子单位为1.5美元GlobalFoundries billion-meaning IBM会支付GlobalFoundries,摆脱成为蓝色巨人的信天翁。分析师Jim McGregor表示,它只是一个时间问题GlobalFoundries关闭IBM的晶圆厂,根据奥尔巴尼商业评论……»阅读更多

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