标签:设计规则检查

集成光学(第3部分)
通过布莱恩•贝利9月- 12,2017 -评论:0

半导体工程坐下来讨论的状态集成光子学与Twan专题Korthorst CEO凤凰软件;Gilles Lamant,杰出工程师(getentity id = " 22032 " e_name =“节奏”);比尔•德•弗里斯营销主管Lumerical解决方案;和布雷特Attaway EPDA应用解决方案的主管目标光子学,纽约州立大学理工学院。以下是摘录的那…»阅读更多

优化挑战10 nm和7海里
通过布莱恩•贝利8月11日,2016 -评论:0

优化是一个简单的时机对面积权衡,但现在不是了。当我们去每一个新的节点权衡变得更加复杂,涉及更多的方面的设计,用于隔离处理。半导体工程与克里希纳Balachandran坐下来讨论这些问题,对低能耗产品的产品管理主管(getentity id = " 22032 "……»阅读更多

提高你的智商MEMS-Based IC设计流程
通过尼古拉•威廉姆斯10月- 15,2015 -评论:0

由尼古拉斯•威廉姆斯和气经物联网(物联网)应用程序依赖于智能对象,与现实世界的互动。所以你的物联网项目可能包含集成微型机电系统(MEMS)的集成电路,如加速度传感器、压力传感器、汽车、和麦克风获取数据进行分析。这些项目正在寻找进入汽车,手机,和…»阅读更多

确保最优性能的物理验证
通过导师,西门子业务——7月22日,2015 -评论:0

通过访问最近铸造规则文件的合格的版本,用户可以获得最有效的规则实现。采用口径的最新版本,用户获得最新的可用操作的改进,操作性能,数据层次结构优化和扩展,提供了最好的性能和减少运行时。设计团队运行的全芯片D…»阅读更多

平衡的颜色密度的绳索
通过大卫阿伯克龙比2月19日,2015 -评论:0

之间左右摇摆的平衡是芯片设计者很擅长。例如,有一个好的平衡优化性能和减少漏设计布局。处理的新要求多模式(MP)引入到设计流程创造了许多新的之间行走。我用脚尖点地,很少谈论的在我的上一篇文章�…»阅读更多

验证您的意图
通过安Mutschler- 3月21日,2013 -评论:0

设计规则检查(DRC)、布局和示意图(lv)和电气规则检查(ERC)今天是强制性的物理验证技术之前检查其结构设计和制造。检查电气设计的特点是一回事。验证实力的意图又是另一回事。重叠的两个是一个有趣的概念。例子:检查fo…»阅读更多

新帖子→

  • 赞助商

关于

导航

与我们联系

版权©2013 - 2023 SMG |服务条款|隐私政策
Baidu