高通量LHSI反射计技术ICU和IWU测量半导体设备


新技术论文题为“对实现高通量高光谱成像技术对半导体设备计量,“从三星电子有限公司研究员抽象”背景:高通量监测三维测量技术晶圆均匀性(IWU)和一致性(ICU) - sensing现代半导体马努是提高产量的关键…»阅读更多

推动EUV掩模修补的局限性:解决sub-10纳米缺陷与下一代e-beam-based面具修理工具


文摘”面具的修复是一个重要的一步生产过程的极端紫外线(EUV)面具。其关键的挑战是不断地提高分辨率的修复和控制,使微型特征尺寸在面具的EUV路线图。最先进的面具修复方法是辅助电子束光刻(电子束)也称为聚焦电子束……»阅读更多

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