简•威利斯

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Jan威利斯口径是一个独立的顾问。她在公司举行的各种高级职位如节奏、Synopsys对此和惠普。她拥有电气和计算机工程学士学位从密苏里大学哥伦比亚,和斯坦福大学的mba。

作者的最新文章

优化VSB射杀数曲线面具
通过简•威利斯8月19日,2021 -评论:0

增加光掩模写时间使用variable-shape电子束(VSB)作家一直是逆光刻技术的采用障碍(ILT)热点超越有限的使用情况。这个视频博客的第二部分看着挑战深度。在这五分钟的小组视频行业名人,Ezequiel罗素形容他的公司之间的协作研究……»阅读更多

面具规则检查曲线光掩模呢?
通过简•威利斯——7月22日,2021 -评论:0

整个光掩模设计链需要考虑采用曲线光掩模。广泛观察生态系统影响是解决之前的视频,但更深入的观察光掩模的设计链提出下一个问题——MRC会越来越需要更多时间吗?阿基》的d2点火打开面板视频行业名人通过提供优惠……»阅读更多

开发一种新的曲线数据格式
通过简•威利斯- 6月17日,2021 -评论:0

曲线生成的数据大小面具会影响周转时间(乙)光掩模生产,因此采用曲线的面具。在以前的博客曲线面具,我们小组名人视频讨论讨论一些可能的解决方案。在这第七个视频,专家组考察一些想法来定义一个新的曲线数据格式,以减少文件大小。阿基》……»阅读更多

采用曲线面具将如何影响周转时间?
通过简•威利斯- 01年6月,2021 -评论:0

周转时间(乙)光掩模制造商一直在过程越来越小的节点,增加eBeam倡议面具制造商的调查报告,所以重要的是要看的影响曲线面具答。在这第六部分我们的博客系列曲线面具,阿基》d2探索这个问题的业内名人在视频面板…»阅读更多

是光掩模曲线进行生态系统准备好了吗?
通过简•威利斯——5月18日,2021 -评论:0

所花费的时间写一个光掩模与曲线的形状是一个重大的历史障碍采用逆光刻技术(ILT),作为我们的博客系列的第二部分中讨论曲线掩模的形状。经过多年的发展,多波束面具作家进入生产和他们的一个特性是能够写曲线面具没有写时间刑法…»阅读更多

广泛地将如何曲线包括用于EUV光掩模吗?
通过简•威利斯——4月29日,2021 -评论:0

曲线形状光掩模导致改进过程窗口,这个博客系列的第一部分讨论了。我们的博客系列继续视频小组讨论的好处曲线形状对EUV光掩模(面具)和曲线形状是否会使用热点超越今天的使用情况。我们的小组成员逼近曲线的问题教师……»阅读更多

多波束面具作家如何使曲线形状光掩模吗?
通过简•威利斯——4月15日,2021 -评论:0

多波束面具写作被确认为消除障碍的方法之一制造曲线形状的面具在这个博客的最后一部分。我们的博客系列继续教育视频解释的多波束作家为什么以及如何减少写时间曲线形状的面具,发生在一个eBeam倡议小组讨论与业内专家20…»阅读更多

弯曲曲线技术规则
通过简•威利斯- 05年4月,2021 -评论:0

有哪些历史曲线进行障碍吗?丹平彭,台积电的董事,反映在他的早期参与教师的发展和遇到的三个主要障碍在发光在小组讨论与业内专家eBeam倡议的年度事件在2021年学报先进光刻技术会议。在主题中,专家组di……»阅读更多

曲线形状光掩模上的好处
通过简•威利斯3月- 15,2021 -评论:0

你有四分钟听为什么像美光科技公司认为曲线形状光掩模是一个优势?在短视频,高级主管Ezequiel罗素掩模技术在微米技术显示了曲线形状可以增加进程窗口高级内存如图1所示。的视频是长与业内专家小组讨论……»阅读更多

乐观的市场前景光掩模eBeam倡议调查报告
通过简•威利斯- 05年10月,2020 -评论:0

每年,eBeam倡议进行调查,提供有价值的见解形成半导体行业的主要趋势。行业杰出人物代表,今年42岁来自半导体公司生态系统参加了2020年eBeam倡议名人的调查。89%的受访者调查预测,光掩模(面具)的收入在2020年将保持…»阅读更多

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