创新的双重标志设计先进光刻对准验证和过程监控


改善产品覆盖是一个关键的挑战时收缩技术在半导体制造节点。智能位置调节标记对X和Y方向,可以确定intra-wafer wafer-by-wafer扭曲。测量和建模应用结果直接作为前馈校正,使晶圆级控制。在这个p…»阅读更多

改善Wafer-Level的参数测量精度和稳定性与探头尖端功率校准110 GHz 5 g应用


作者:Choon大麻新航,形状因子Inc .,新加坡要求关键任务的无线服务,如自动驾驶和远程医疗需要更高的数据传输速率和更低的延迟。这样的应用程序现在驾驶的使用无线电频率(RF) 28岁38岁60和73 GHz新兴5 g移动通信系统。Waferlevel射频测量设备或电路5…»阅读更多

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