与High-NA EUV新挑战的出现


高数值孔径EUV曝光系统是未来——只要2025据估计。虽然肯定深刻变化比极端的紫外线光刻技术的引入,high-NA光刻仍为光阻带来一系列新的挑战和相关材料。高数值孔径,光子晶片浅角。需要稀释剂p…»阅读更多

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