标签:有先进光刻

期待相比
通过凯瑟琳德比郡2023年2月- 16(-评论:0

今年的前夕有先进光刻+模式会议上,我看了看IEEE设备和系统路线图的光刻技术部分。尤其引人注目的EUV光刻技术的出现,已迅速成为先进逻辑的关键。High-NA工具以支持更小的尺寸。不过,在近期的关键挑战不是……»阅读更多

捕碳纳米管场效应晶体管
通过马克LaPedus- 3月18日,2021 -评论:6

碳纳米管晶体管终于取得进展的潜在用途先进逻辑芯片研发近四分之一世纪后。现在的问题是,他们是否会走出实验室,进入工厂。一些政府机构、公司、铸造厂和大学多年来发展,并与碳纳米管场效应正在进步做出……»阅读更多

制造业:3月8日
通过马克LaPedus- 08年3月,2021 -评论:0

双光束EUV光刻在最近有先进光刻技术会议,尼康给介绍一个双梁极端紫外线(EUV)光刻技术。还在概念阶段,尼康的所谓EUV投影光学片曝光划线机,或EUV动力机械,是专为1 nm节点。提出了系统的最小分辨率10纳米线……»阅读更多

制造业:3月2日
通过马克LaPedus3月- 02年,2021 -评论:0

下一代AFM在最近有先进光刻技术会议,Imec、Infinitesima等描述了一种新的计量工具快速探针显微镜技术(RPM)。Infinitesima首次运送RPM 3 d系统,使三维(3 d)计量应用领先的芯片。该系统与Imec联合开发。IEDM纸,Imec和Infinitesima……»阅读更多

制造业:3月3日
通过马克LaPedus- 03年3月,2020 -评论:0

安全光刻在最近有先进光刻技术会议,多波束披露更多细节的努力开发多波束直写光刻芯片安全应用程序。大卫·林多波束的首席执行官和董事长,描述如何使用多波束光刻来帮助阻止IC市场伪造和篡改。这种光刻技术……»阅读更多

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